Abstract
В работе исследована кинетика кристаллизации тонких пленок материала Ge2Sb2 Te 5. Показано, что время кристаллизации, а значит, и время работы устройств на основе данного материала в значительной степени зависят от температуры, что открывает возможность оптимизации режимов работы устройств.

This publication has 16 references indexed in Scilit: